52581 Химия 🔥📚📍🤙
Отменен
Описание работы
Исходные вещества SiCl4, O2, SiF4 при температуре примерно 1000 -2000 К образуют частицы SiO2, F2. Нужно расчитать глубину диффузионного насыщения образующихся частиц SiO2 (кварцевого стекла) фтором в зависимости от скорости потока исходных веществ и температуры нагрева?
Скорости потока исходных веществ могут быть в диапазоне от 0 до 1000 мл/мин, температура нагрева от 1000 до 2000 К.
Нужна такая же работа?
- Разместите заказ
- Выберите исполнителя
- Получите результат
| Гарантия на работу | 1 год |
| Средний балл | 4.54 |
| Стоимость | Назначаете сами |
| Эксперт | Выбираете сами |
| Уникальность работы | от 70% |
Предыдущий заказ
Следующий заказ
Нужна аналогичная работа?
Оформи быстрый заказ и узнай стоимость
Гарантированные бесплатные доработки в течение 1 года
Быстрое выполнение от 2 часов
Проверка работы на плагиат
